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JSW日本製鋼所は低温ポリシリコンTFT(多結晶シリコンによる薄膜トランジスタ)型液晶の製造ラインに用いられるエキシマ・レーザ・アニーリング・システム(ELA)を1995年から製造販売しています。これまで量産用システムとして数多くの実績を持ち、参入当初からトップメーカとして貢献しています。 |
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ELA装置は、ガラス基盤上に成膜されたアモルファス(非結晶)シリコン膜にエキシマレーザを照射し、ポリシリコンに改質する装置です。ポリシリコンに改質する事により、性能の優れたTFT(薄膜トランジスタ)を形成する事が可能になります。 |
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エキシマレーザはドイツのラムダフィジック社から、またレーザ光を加工する光学系は同じくドイツのミコラス社から提供を受け、最適なアニールシステムを設計/製造し、全体を仕上げ提供しています。そしてラムダフィジック社協力の下、アフターサービス業務も行なっています。 |
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