高精細LCD、OLED対応 エキシマレーザアニール装置

エキシマレーザアニール(ELA)装置は、レーザ照射によってガラス基板上に成膜されたアモルファス(非結晶)シリコン膜をポリシリコンへと改質する装置です。高精細パネルの駆動部であるTFT(薄膜トランジスタ)には低温ポリシリコンが広く用いられており、スマートフォン、デジタルカメラ、携帯型ゲーム機等の高精細パネルの製造にELA装置は欠かせません。

実績

1995年の販売以来、日本、韓国、台湾、中国、シンガポールの液晶パネルメーカー様にご使用頂いています。

特徴

  • 業界最大級のガラス基板寸法に対応
  • プロセスマージンの拡大―Pulse Extender、ムラ改善、パルス波形変動の緩和
  • メンテナンスコストの改善―チューブの長寿命化
  • 振動の抑制
  • 新制御システムの導入―安定性と操作性の向上

仕様

基板サイズ / mm ≧G6
レーザ・光学系 Tri Vyper+LB1500 
波長 / nm 308
最大パルスエネルギー / mJ 6,000
最大出力 / W 3,600
周波数 / Hz 600
パルスエネルギー安定性 / ±3 sigma(combined beam) % ≦1.8
ビームサイズ / SA x LA mm2 0.5 x 1,570
エネルギー密度 / mJcm-2 430
スループット / pieces/hour 26.4*
フットプリント / W x L m2 (メンテナンスエリア含む) 13.5 x 19.2
総重量 / kg 140,000 (140 ton)