新型エキシマレーザアニール装置を販売開始

株式会社日本製鋼所

当社は、高精細のディスプレイ製造工程向けに、新型エキシマレーザアニール装置※の販売を2018年12月より開始いたします。エキシマレーザアニール装置はアモルファスシリコンの結晶化に必要で、昨今、その生産性やランニングコストの改善が大きな課題でした。新型装置は、革新的な技術によりプロセス処理能力を改善すると同時に、エキシマレーザをより効率良く対象物へ照射できるのが特長で、従来の品質・特長を保持したまま、生産性を２５％向上しランニングコスト２０％削減を実現しました。
本装置は、12/5～12/7に幕張メッセで開催されるファインテックジャパン2018において、パネル展示を予定しております。

●名 称：新型エキシマレーザアニール装置
●対 象：中小型・モバイル、高精細ディスプレイ製造向け
●用 途：エキシマレーザによるシリコンの結晶化（アモルファスシリコンをポリシリコンに再結晶化）
●特 長１：プロセス処理効率の改善による生産性向上とランニングコスト低減を実現
　　①ワーク（ガラス基板、膜）の連続処理が可能
　　②レーザショットを効率よく使用可能
●特 長２：従来装置との性能比較
　　③生産性 ：２５％向上（第６世代ガラス基板での当社装置比較）
　　④ランニングコスト ：２０％削減

当社は、本装置に関し、これまで200台以上の納入実績があり、国内のトップメーカです。スマートフォンを
はじめ、タブレット・ＰＣモニター、車載モニターなどの各種ディスプレイの製造に引き続き貢献してまいります。

※エキシマレーザアニール装置：
・ガラス基板上に成膜されたアモルファスシリコン（非晶質シリコン）へ、ラインビーム状に形成したエキシマレーザ光を照射することにより、ポリシリコン（結晶化シリコン）に再結晶化（熱溶融）するための装置です。
・再結晶化したポリシコン膜は、ディスプレイの駆動部である、薄膜トランジスタ（TFT）に使用されます。
・エキシマレーザ発振器、光学系システム、プロセスチャンバー、コントロールシステムからなります。
・最大レーザ出力は3,600W、最大ラインビーム長さは1,500mm、基板サイズは第6世代（1,500mm×1,650mm）です。

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＜問い合わせ先＞
株式会社日本製鋼所 経営企画室 広報グループ TEL：03-5745-2012