薄膜成膜装置事業への進出によるIT関連装置ビジネスでの事業拡大について

当社は、スマートフォン・タブレットPC・大型高精細TV・車載ディスプレイ等の伸びを背景に急成長が期待できるIT関連装置ビジネスにおいて、あらたなビジネスチャンスを見い出すべく、薄膜成膜装置事業に進出します。
これまでのレーザー応用技術（結晶化、活性化）に加えプラズマ応用技術（成膜）を用いた装置を取り扱うことにより、製品ラインアップを充実し、市場の景気変動リスクを回避するとともに、同市場の成長力を取り込むことを狙います。

当社は数年前から新しい高密度プラズマ発生技術の共同開発に取り組んでおり、このたびその実用化に目処をつけました。同技術を用いたCVD（化学気相堆積）装置は、高速かつ低温で薄膜を成膜することを可能にします。現在、量産規模のテスト装置を製作中であり、今年度中に完成させ、お客さまの各種テストに供する予定でおります。

2014年2月にJSWアフティ株式会社を設立し、ECR（電子サイクロトロン共鳴）スパッタ、ALD（原子層堆積法）の成膜装置ならびに加熱式アニール装置の製造、販売およびサービスを先行して4月より開始しております。
従来のエキシマレーザアニール装置や固体レーザアニール装置に加え、これらの各種成膜装置を新たに戦列へ投入することにより、事業規模を、現在の100億円前後から3年後には200億円超へ拡大させていく計画でおります。